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法國《回聲報》日前刊登巴黎第一大學教授埃馬紐埃爾·孔博（Emmanuel Combe）的文章指出，限制一個國家獲取尖端技術，有時可能產生與初衷完全相反的效果。這位法國學者以中國為例，探討這一現象。如今，中國在芯片光刻機領域正開始逐步縮小與世界領先水平的差距。孔博又預言，歐洲和美國將是這場博弈中的兩大輸家。
這篇文章在開頭提到，歐洲市值最高的科技企業、全球半導體設備巨頭ASML幾乎壟斷了全球EUV（極紫外）光刻機市場——這種設備專門用於製造最先進的芯片；與此同時，它還佔據了全球80%以上的DUV光刻機市場。這種壟斷地位，是30多年研發投入的成果，也建立在一個獨一無二的歐洲供應鏈生態系統之上。這些技術壁壘極高，因此，新競爭者的出現一直被認為幾乎不可能。然而，自2019年以來，在美國持續施壓下，荷蘭政府不得不禁止向中國出口EUV光刻機以及性能最先進的DUV光刻機。
孔博指出，中國雖然無法獲得EUV光刻機，但仍可以通過增加DUV光刻機多重曝光（multiple patterning）的次數來製造先進芯片，只是良率會明顯下降。他表示，過去由於ASML能够自由進入中國市場，本土企業即使研發成功，也未必能够找到足够客戶，因此投資風險極高。如今情況不同了，全球最強大的外國競爭者已經被擋在中國市場之外，本土企業面對的是一個「被鎖定」的巨大國內需求市場。孔博認為，原本最令人擔憂的銷路問題因此大幅降低，而這正是通常阻止企業進入資本密集型產業的最大障礙。
孔博進一步評估，短期內，中國尚不足以真正威脅ASML。但從長遠來看，局勢卻可能完全不同。在這場中美之間的科技競爭中，最終可能出現兩個最大的輸家。
首當其衝的是歐洲。歐洲本來並沒有主動挑起這場衝突，卻不得不接受美國制定的出口規則，限制本國企業向中國出售產品。隨著時間推移，歐洲企業最終將失去中國這一重要市場的一部分。
第二個輸家則是美國。美國或許能够在短期內延緩中國技術追趕的速度，但與此同時，它也在客觀上刺激了中國自主研發尖端技術的動力，加速了中國建立完整技術體系。
孔博總結說，如果未來中國成功突破光刻機技術瓶頸，那麼，中國甚至可能會「感謝」特朗普：因為正是他的出口限制，迫使中國走上了自主創新之路。
圖片來源：網上圖片
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