//今次突破有助解決中國先進芯片嘅生產能力問題，實現國產化同自主化！//

上海微電子裝備集團（SMEE）日前攜自主研發的新一代前道乾式掃描投影光刻機SSC800、SSB800（模型），亮相第九屆中國國際進口博覽會中國館，正式對外展示中國前道光刻裝備自主化的最新階段性成果。這次展出的模型採用透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路布局。

光刻機是半導體製造中的核心裝備，被譽為「半導體工業皇冠上的明珠」，負責把電路圖案從掩模版（光罩）「印」到硅片上。「前道」指芯片製造最前段的工序，對精度要求極高；「乾式」則與浸潤式相對，具體指使用空氣介質而非液體介質（如浸沒光刻機中的水）進行曝光工作。

SMEE通過微信公眾號發文介紹，本次展出的模型採用透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路布局。該平台為國產標準化前道光刻裝備架構，適配I-line、KrF兩類主流技術路線，整機核心的高精度物鏡與照明系統、高速雙工件台與掩模台、一體化自動物料傳輸系統、高精度對準調平傳感系統均實現全鏈條自主可控，具備穩定的工藝適配能力與產線運行可靠性。

在售的SSC800系列KrF與SSB800系列I-line機型，基於自研雙工件台平台，均搭載國產自主大NA物鏡，關鍵曝光成像指標對標國際標竿。

值得留意的是，SSC800整體性能躋身行業第一梯隊。基於全棧自主可控技術底座，關鍵零部件國產化率突破90%，已實現定型與規模化量產，填補國內空白。多台設備已在國內頭部邏輯、存儲量產線長期穩定運行，累計支持產線流片超千萬片，設備有效運行率超過92%。

圖片來源：網上圖片

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