//面對美西方嘅無理打壓，中國再一次向全球展示自立自強嘅決心！//
據美國科技媒體The Information報道，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光刻機（DUV），首批設備預計將在今年內交付給中芯國際、華虹半導體和長鑫存儲等國內主要晶片製造商。
報道引述兩名不具名知情人士稱，一家總部位於上海的企業已啟動浸沒式DUV光刻機的小規模批量生產。為加快研發進度，該公司整合了國內多家企業的浸沒式DUV研發團隊，其中包括政府支持的晶片設備初創企業上海宇量昇科技。但報道未有披露這家獲得國家支持的製造商具體名稱。
報道稱，這一突破最終可能對半導體微影設備巨頭荷蘭阿斯麥（ASML）在中國市場的地位構成挑戰，但國產設備目前在性能和可靠性方面仍有差距，在實現量產前還需進一步測試。
報道又指，國產DUV的初期產量將較為有限，今年計劃生產約5台，2027年產量提升至約20台。
另據內地科技自媒體《快科技》，該款國產光刻機主打28納米成熟製程晶片生產，依託多重圖形化曝光工藝，還可滿足7納米級別晶片的製造需求。
圖片來源：網上圖片
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