晶片，可以說是主宰當今世界經濟命脈的「大腦」；而光刻機，正是製造這個「大腦」最核心、也是最精密的工具，已成為兵家必爭之物。還記得兩年多前，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公司（ASML）前行政總裁溫寧克，就曾經預言美國對華的半導體出口管制措施，最終會促使中國在高端芯片製造設備領域，成功研發出自己的技術。如今，溫寧克這個預言，正在變成現實。
首款國產「DUV」光刻機
英國《金融時報》早前報道，中國晶圓代工龍頭中芯國際，正在測試由上海宇量昇科技公司生產的深紫外光光刻機，也就是「DUV」。一名知情人士透露，中芯國際初步測試結果相對樂觀，但目前尚不清楚該光刻機何時能投入量產。
而綜合英美科技媒體的消息，這款國產「DUV」光刻機，採用了與阿斯麥公司相似的「浸潤式」技術，主要針對28納米制程設計，並可通過所謂「多重圖案化」（multi-patterning）技術生產7納米芯片，甚至在極限情況下，可以生產出更先進的5納米的芯片。
力拚突破美西方封鎖
說到光刻機，相信許多關注科技的朋友們都知道，光刻機的性能核心，取決於光源的波長。
目前，光刻技術主要分為深紫外光（DUV）與極紫外光（EUV）兩大路線。波長越短，所能製造的芯片電路就越精密。「DUV」光刻機所採用的紫外光波長為193納米；而更為先進的「EUV」技術，則進一步將波長縮短至13.5納米，從而能夠製造出結構更細微、性能更強大的芯片，譬如英偉達等最先進芯片的生產，統統都是依賴「EUV」光刻機。而當前全球的「EUV」光刻機，正是由阿斯麥公司壟斷。
那麽，中芯國際這款國產「DUV」光刻機，雖然與阿斯麥公司最先進的光刻設備仍有差距，為什麽它的測試消息依然如此重要？因為它意味著，在美國層層加碼的芯片封鎖之下，中國芯片產業不僅沒有倒下，反而在突破西方技術封鎖、構建自主可控的芯片製造體系道路上，邁出了關鍵一步，正展現出強勁的韌性。
從最初被禁止購買最頂尖的「EUV」光刻機，到後來先進的「DUV」設備也被限制，美西方的封鎖，確實給中國芯片產業帶來了階段性困難。但就正如溫寧克所預言的，「你越給他們（中國）施加壓力，他們越有可能加倍努力」。如今，這份壓力已切實轉化為中國自主研發的最強動力。一旦成功，中國將在突破美國晶片出口管制、降低對西方技術依賴，以及擴大先人工智慧晶片產能上取得重大勝利。
光刻技術被打開缺口？
據外媒分析指，通常新款「DUV」設備至少需要1年時間，而且經過多次調整，才具備量產條件。也就是說，從測試成功到大規模量產，中國還有一段路要走，況且與國際最先進水平相比，仍有差距，特別是在最尖端的「EUV」領域，攻關仍在繼續。
然而可以肯定的是，中國芯片自主，不再是遙不可及的夢。我們國家擁有全球最大的芯片市場、完整的工業體系，還有集中力量辦大事的制度優勢，更擁有中國人民團結一心、自力更生的奮鬥精神。光刻機這道曾經看似堅不可摧的技術壁壘，都已經被我國撕開了一道缺口。
封鎖，從來封鎖不住創新！中國半導體產業，一定可以在自主創新的道路上，走得更穩、更遠！
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